Нагревательная плита HP10

Нагревательная плита HP10 предназначена для равномерного нагрева, сушки и термообработки фоторезиста, растворов и материалов.

Оборудование применяется в лабораторных процессах фотолитографии, подготовки подложек, сушки покрытий и термообработки образцов. Модель HP10 имеет рабочую поверхность 220 × 220 мм, диапазон нагрева от комнатной температуры до 300 °C и мощность нагрева 1000 Вт.

Преимущества
Равномерный нагрев рабочей поверхности.
Подходит для сушки фоторезиста.
Рабочая поверхность 220 × 220 мм.
Максимальная температура до 300 °C.
Цифровая настройка температуры.
Разрешение по температуре 0,1 °C.
Точность поддержания температуры ±1 °C.
Компактное настольное исполнение.
Подходит для лабораторной фотолитографии и подготовки образцов.

Технические характеристики
Тип оборудования: нагревательная плита / hot plate.
Назначение: нагрев, сушка и термообработка образцов.
Рабочая поверхность: 220 × 220 мм.
Диапазон температуры: от комнатной температуры до 300 °C.
Разрешение установки температуры: 0,1 °C.
Точность поддержания температуры: ±1 °C.
Равномерность температуры: < ±2 %.
Мощность нагрева: 1000 Вт.
Масса: 8 кг.

Нагревательная плита. Нагревательная плита для фотолитографии. Hot plate для лаборатории. Плита для сушки фоторезиста. Лабораторная нагревательная плита. Термоплита. Нагревательный столик. Равномерный нагрев. Сушка фоторезиста. Термообработка фоторезиста. Сушка покрытий. Термообработка образцов. Подготовка подложек. Нагрев растворов. Лабораторная фотолитография. Рабочая поверхность 220 × 220 мм. Диапазон нагрева до 300 °C. Мощность 1000 Вт. Масса 8 кг. Настольное исполнение. Разрешение 0,1 °C. Точность поддержания ±1 °C. Равномерность температуры < ±2 %. Цифровая настройка температуры. Регулировка температуры. Равномерный нагрев поверхности. Компактное настольное исполнение. Высокая точность поддержания. Широкий диапазон температур. Совместимость с лабораторными процессами. Купить нагревательную плиту для лаборатории. Hot plate для фотолитографии цена. Нагревательная плита для сушки фоторезиста. Лабораторная плита до 300°C. Термоплита 220×220 мм. Плита для нагрева образцов. Оборудование для сушки покрытий. Лаборатории фотолитографии. Производство микроэлектроники. Научные исследования. Подготовка подложек. Термообработка материалов.