Установка плазменной обработки PT40K-BE

Установка плазменной обработки PT40K-BE предназначена для обработки поверхности подложек и различных материалов низкотемпературной плазмой.

Установка рассчитана на обработку подложек диаметром до 8 дюймов (200 мм). Вакуумная камера объемом 6,4 л изготовлена из алюминиевого сплава. Генератор работает на частоте 40 кГц, рабочая мощность регулируется в диапазоне 0-500 Вт. Автоматическое согласование упрощает настройку режима обработки. Оборудование может применяться для очистки и активации поверхности, повышения ее гидрофильности и подготовки к последующим технологическим операциям.

Преимущества

• Обработка подложек диаметром до 8 дюймов (200 мм).
• Широкая совместимость с различными материалами.
• Эффективная плазменная очистка и повышение гидрофильности поверхности.
• Рабочая мощность 0-500 Вт.
• Отсутствие расхода химических реагентов в процессе плазменной обработки.
• Автоматическое согласование генератора.
• Обработка без существенного изменения основных характеристик материала. Компактное исполнение установки.

Технические характеристики

Область применения

PT40K-BE может применяться в лабораторных и исследовательских работах в области микроэлектроники, материаловедения, тонкопленочных технологий и подготовки поверхности. Установка подходит для плазменной очистки и активации различных материалов, повышения гидрофильности и улучшения смачиваемости поверхности перед нанесением покрытий, склеиванием и другими технологическими операциями.

Установка плазменной обработки PT40K-BE. Плазменная обработка поверхности. Плазменная очистка подложек. Низкотемпературная плазма. Оборудование для плазменной активации. Плазменная установка для лаборатории. Плазмохимическая обработка. Обработка подложек до 8 дюймов (200 мм). Очистка поверхности. Установка плазменной обработки. PT40K-BE. Плазменная обработка поверхности. Плазменная очистка. Активация поверхности плазмой. Низкотемпературная плазма. Плазменная установка 40 кГц. Повышение гидрофильности поверхности. Обработка подложек плазмой. Плазменная установка для лаборатории. Активация поверхности. Повышение гидрофильности. Подготовка к нанесению покрытий. Подготовка к склеиванию. Улучшение смачиваемости. Обработка без изменения свойств материала. Частота генератора 40 кГц. Мощность 0–500 Вт. Максимальная мощность 1000 Вт. Автоматическое согласование. Вакуумная камера 6,4 л. Алюминиевый сплав камеры. Размер камеры 226×126×224 мм. Эффективная зона 200×200 мм. Время обработки до 300 с. Производительность насоса 4 м³/ч. Время стабилизации газа 30 с. Остаточное давление менее 10 Па. Габариты 500×480×290 мм. Один поплавковый расходомер. Отсутствие химических реагентов. Компактное исполнение. Автоматическое согласование. Широкая совместимость с материалами. Эффективная очистка. Обработка без существенного изменения характеристик. Микроэлектроника. Материаловедение. Тонкопленочные технологии. Подготовка поверхности. Лабораторные исследованияНаучные исследования. Купить установку плазменной обработки. Плазменная установка цена. Оборудование для плазменной очистки подложек. Установка для активации поверхности. Плазменная обработка 8 дюймов. Лабораторная плазменная установка. PT40K-BE цена.